产品名称：熱処理装置製造・販売　株式会社ダン・タクマ　N2置換式低酸素濃度クリーンオーブン　重庆

班级100以上的氛围加热处理可能

以下的过程中有效。

高温（MAX 500°C）处理
氧浓度下降
槽内清洁的条件
晶圆25张同时处理
从高温状态下快速下降温度
聚酰亚胺热处理*适合的清洁烤箱

仕様
方式	窒素置換方式
仕様温度範囲	100℃〜400℃（常用350℃）
温度分布精度	±3.0％ 350℃に於いて（槽内無負荷時）
昇温時間	RT→350℃	約60min（槽内雰囲気温度）
	150℃→350℃	約45min（槽内雰囲気温度）
下降温度時間	350℃→50℃	約60min（槽内雰囲気温度）
	350℃→150℃	約30min（N2ガス導入時）
酸素濃度	30ppm以下（N2ガス　200NL/min供給時）
清浄度	オーブン内雰囲気	100p/cft@0.1μm以上
	EFEM部	クラス＝M1
処理槽材質	SUS304研磨仕上げ
N2供給量	200NL/min（流量センサー付き）

低酸素雰囲気で熱処理を行う クリーンオーブン で300φシリコンウエーハを対象としており、標準仕様は常用350°Cです。
温度は500°Cまで対応可能です。（高温の場合、装置仕様は一部変更となります。）
FOUPから自動移載し、25枚同時に熱処理行い冷却後にFOUPに戻します。
熱処理時のウエーハは水平方向だけでなく、オプション機能で垂直方向にする事も可能です。
1チャンバータイプだけでなく、2、4チャンバータイプにも対応いたします。
（200φシリコンウエーハにも対応いたします。）