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班级100以上的氛围加热处理可能
以下的过程中有效。
高温(MAX 500°C)处理
氧浓度下降
槽内清洁的条件
晶圆25张同时处理
从高温状态下快速下降温度
聚酰亚胺热处理*适合的清洁烤箱
低酸素雰囲気で熱処理を行う クリーンオーブン で300φシリコンウエーハを対象としており、標準仕様は常用350°Cです。
仕様
方式
窒素置換方式
仕様温度範囲
100℃〜400℃(常用350℃)
温度分布精度
±3.0% 350℃に於いて(槽内無負荷時)
昇温時間
RT→350℃
約60min(槽内雰囲気温度)
150℃→350℃
約45min(槽内雰囲気温度)
下降温度時間
350℃→50℃
約60min(槽内雰囲気温度)
350℃→150℃
約30min(N2ガス導入時)
酸素濃度
30ppm以下(N2ガス 200NL/min供給時)
清浄度
オーブン内雰囲気
100p/cft@0.1μm以上
EFEM部
クラス=M1
処理槽材質
SUS304研磨仕上げ
N2供給量
200NL/min(流量センサー付き)
温度は500°Cまで対応可能です。(高温の場合、装置仕様は一部変更となります。)
FOUPから自動移載し、25枚同時に熱処理行い冷却後にFOUPに戻します。
熱処理時のウエーハは水平方向だけでなく、オプション機能で垂直方向にする事も可能です。
1チャンバータイプだけでなく、2、4チャンバータイプにも対応いたします。
(200φシリコンウエーハにも対応いたします。)