产品信息

4214 型离子发生器即使在高纯度 N2 环境下也支持“扩展 ISO 1 级，10nm”的高清洁度，并实现出色的离子平衡。

特征

■超低颗粒负载采用单晶硅电极。
■独特的清洁机制，不会向外部释放颗粒，确保长期稳定的清洁度
■采用智能控制电路，无需任何调节
■内置传感器持续监控离子产生，实现可靠的静电消除
■控制器、电源内置集成紧凑型设计
■自动高压关断功能可在低流量时保护产品
■非常适合先进的半导体制造工艺和其他超低颗粒应用
■ 24V DC 驱动

规格

输入电压	24V DC+/-5% 6W（典型值）
离子平衡	<+/-25V 150mm 距离 40LPM 无管道连接
静电消除时间	<10sec 150mm 距离 40LPM 无管道连接 +/-1kv → +/- 100v 通过充电板监视器
离子发生方式	电晕放电型高频交流型
清洁度	ISO Class1，0.1 微米 “扩展 ISO Class1，10nm”*
电极	单晶硅可替代
兼容的吹扫气体	氮气 > 99.998%
流量	40LPM(36.5Kpa)～90LPM(171kpa)
*大吹扫压力	207Kpa（=100LPM流量）
*高气体温度	60℃
N2 吹扫连接	Swagelok3/8" 外径管道
电离 N2 连接	世伟洛克 1/2"OD 管道连接，带 1/4NPT 内螺纹连接器或可选接头28-25710-SC
工作温度限制	15～60℃
信号输出	开/关触点报警和离子滴输出
尺寸	长152.4mm x 宽72.4mm x 深32mm （不包括管道）
重量	640克
外部的	不锈钢
安装方法	背面M5螺丝螺丝长度必须小于10mm

扩展的 ISO 1 级 10nm
是 ION Systems 独立确定的清洁度定义，以支持微小颗粒管理。ISO14644-1定义*小粒径为100nm。扩展ISO Class 1，10nm采用与ISO14644-1相同的计算允许颗粒数的公式，对于直径10nm以上的颗粒，允许颗粒数为1200pc/m3（34 pc/ft3）。

产品名称：日本SIMCO思美高中国重庆代理（内藤）

产品信息

4214 型离子发生器即使在高纯度 N2 环境下也支持“扩展 ISO 1 级，10nm”的高清洁度，并实现出色的离子平衡。

特征

规格