特征

■支持超低粒子使用单晶硅电极。
■独特的不向外部排放颗粒的清洁机制，确保长期稳定的清洁水平
■使用无需任何调整的智能控制电路
■内置传感器持续监测离子产生，实现可靠的静电消除
■控制器、电源内置集成紧凑型设计
自动高压关闭功能，在低流量下保护产品适用于先进的半导体制造工艺和其他超低颗粒应用
24V DC 驱动

规格

输入电压	24V DC+/-5% 6W 典型值。
离子平衡	<+/-25V 150mm 距离 40LPM 无管道连接
静电消除时间	<10 秒 150 毫米距离 40LPM 无管道 +/-1kv → +/- 100v 通过充电板监视器
离子发生法	电晕放电型高频交流方式
清洁度	ISO Class1,0.1 微米 “扩展 ISO Class1,10nm”*
电极	单晶硅可更换
相应的吹扫气体	N2 > 99.998%
流量	40LPM (36.5Kpa) 至 90LPM (171kpa)
*大吹扫压力	207Kpa (=100LPM 流量)
*高气体温度	60摄氏度
N2 吹扫连接	世伟洛克 3/8" 外径管道
电离 N2 连接	世伟洛克 1/2" OD 管道连接，带 1/4NPT 内螺纹连接器或可选接头28-25710-SC
工作温度限制	15至60摄氏度
信号输出	开/关触点处的警报和低离子输出
尺寸	长 152.4mm x 宽 72.4mm x 深 32mm 不包括管道
重量	640克
外部的	不锈钢
安装方式	背面M5螺丝螺丝长度必须小于10mm

扩展的 ISO 1 级，10nm
是 ION Systems **定义的清洁度定义，以支持细颗粒物管理。ISO14644-1 定义*小粒径为 100nm。扩展 ISO 等级 1,10nm 使用与 ISO14644-1 相同的允许颗粒数计算公式，对于 10nm 或更大的晶粒尺寸，允许的颗粒数为 1200pc/m3 (34 pc/ft3)。

产品名称：日本SIMCO思美高4214 型离子发生器

特征

规格